Tanek film na prevlečeni tarči je posebne oblike materiala.V določeni smeri debeline je skala zelo majhna, kar je mikroskopsko merljiva količina.Poleg tega se zaradi videza in vmesnika debeline filma kontinuiteta materiala konča, zaradi česar imajo filmski podatki in ciljni podatki različne skupne lastnosti. In cilj je predvsem uporaba magnetronskega napršenega premaza, Pekinški urednik Richmata nas bo razumel princip in veščine nanašanja brizgalnih premazov.
一、Princip brizgalne prevleke
Spretnost nanašanja premazov z brizganjem je uporaba tarčnega videza ionskega luščenja, ciljni atomi so izločeni iz pojava, znanega kot brizganje.Atome, ki se nanesejo na površino substrata, imenujemo napršeni premaz. Na splošno ionizacijo plina povzroči praznjenje plina, pozitivni ioni pa pod delovanjem električnega polja z visoko hitrostjo bombardirajo katodno tarčo in izstrelijo atome ali molekule katodna tarča in leti na površino substrata, ki ga je treba nanesti v film. Preprosto povedano, premaz z brizganjem uporablja nizkotlačno razelektritev v inertnem plinu za ustvarjanje ionov.
Na splošno je oprema za nanašanje brizgalne folije opremljena z dvema elektrodama v komori za vakuumsko praznjenje, katodna tarča pa je sestavljena iz podatkov o prevleki.Vakuumska komora je napolnjena s plinom argonom s tlakom 0,1 ~ 10 Pa.Žarilna razelektritev se pojavi na katodi pod vplivom negativne visoke napetosti 1~3 kV enosmernega toka ali RF napetosti 13,56 mhz. Ioni argona bombardirajo ciljno površino in povzročijo, da se razpršeni ciljni atomi kopičijo na substratu.
二、Značilnosti veščin nanosa brizganja
1、Hitra hitrost zlaganja
Razlika med visokohitrostno magnetronsko razpršilno elektrodo in tradicionalno dvostopenjsko razpršilno elektrodo je v tem, da je magnet razporejen pod tarčo, zato se na površini tarče pojavi zaprto neenakomerno magnetno polje。Lorentzova sila na elektrone je proti središču heterogenega magnetnega polja.Zaradi učinka fokusiranja elektroni manj uhajajo.Heterogeno magnetno polje gre okoli ciljne površine in sekundarni elektroni, ujeti v heterogenem magnetnem polju, večkrat trčijo v molekule plina, kar izboljša visoko stopnjo pretvorbe molekul plina. Zato magnetronsko razprševanje z visoko hitrostjo porabi malo energije, vendar lahko doseže veliko učinkovitost premaza z idealnimi lastnostmi praznjenja.
2、Temperatura podlage je nizka
Visokohitrostno magnetronsko razprševanje, znano tudi kot nizkotemperaturno razprševanje.Razlog je v tem, da naprava uporablja razelektritve v prostoru elektromagnetnih polj, ki so naravnost drug proti drugemu.Sekundarni elektroni, ki se pojavljajo na zunanji strani tarče, drug v drugem.Pod delovanjem ravnega elektromagnetnega polja se veže blizu površine tarče in se premika vzdolž pristajalne steze v krožni kotalni liniji, pri čemer večkrat trka ob molekule plina, da ionizira molekule plina. Elektroni sami skupaj postopoma izgubljajo svojo energijo skozi ponavljajoče se udarce, dokler se njihova energija skoraj popolnoma ne izgubi, preden lahko pobegnejo s površine tarče blizu podlage.Ker je energija elektronov tako nizka, se temperatura tarče ne dvigne previsoko.To je dovolj za preprečevanje dviga temperature substrata, ki ga povzroči bombardiranje z visokoenergijsko elektroni navadne diode, ki zaključi kriogenizacijo.
3、Širok nabor membranskih struktur
Struktura tankih filmov, pridobljenih z vakuumskim izparevanjem in injekcijskim nanašanjem, je precej drugačna od tiste, pridobljene s redčenjem razsutega materiala.V nasprotju s splošno obstoječimi trdnimi snovmi, ki so razvrščene kot v bistvu enake strukture v treh dimenzijah, so filmi, odloženi v plinski fazi, razvrščeni kot heterogene strukture. Tanki filmi so stebrasti in jih je mogoče raziskati z vrstično elektronsko mikroskopijo.Stebričasto rast filma povzroči prvotna konveksna površina substrata in nekaj senc v izstopajočih delih substrata.Vendar sta oblika in velikost kolone precej drugačni zaradi temperature substrata, površinske disperzije zloženih atomov, zakopavanja atomov nečistoč in vpadnega kota vpadnih atomov glede na površino substrata.V previsokem temperaturnem območju ima tanek film vlaknato strukturo, visoko gostoto, sestavljeno iz finih stebričastih kristalov, kar je edinstvena struktura filma za brizganje.
Tlak razprševanja in hitrost zlaganja filma prav tako vplivata na strukturo filma.Ker imajo plinske molekule učinek zatiranja disperzije atomov na površini substrata, je učinek visokega tlaka razprševanja primeren za padec temperature substrata v modelu.Zato je mogoče porozne filme, ki vsebujejo drobna zrna, dobiti pri visokem tlaku razprševanja.Ta film majhne velikosti zrn je primeren za mazanje, odpornost proti obrabi, površinsko utrjevanje in druge mehanske aplikacije.
4、Razporedite kompozicijo enakomerno
Spojine, zmesi, zlitine itd., ki jih je primerno težko prevleči z vakuumskim izhlapevanjem, ker so parni tlaki komponent različni ali ker se med segrevanjem razlikujejo. Metoda nanosa z naprševanjem je, da ciljno površinsko plast atomov naredi plast za plastjo na substrat, je v tem smislu popolnejša filmska sposobnost.Pri proizvodnji industrijskih premazov z brizganjem se lahko uporabljajo vse vrste materialov.
Čas objave: 29. aprila 2022